光子晶体应用理论研究

摘要
第一章 绪论
1．1 研究背景和意义
1．1．1 流动控制技术和MEMs技术
1．1．2 合成射流技术
1．2 合成射流激励器及其应用进展综述
1．2．1 合成射流激励器分类和发展方向
1．2．2 合成射流技术应用进展综述
1．2．3 小结
1．3 本书主要研究内容

上篇 机理篇
第二章 合成射流激励器基础研究
2．1 引言
2．2 压电式合成射流激励器集中参数模型及合成射流频响特性分析
2．2．1 压电振子工作原理及振动分析
2．2．2 合成射流激励器集中参数模型基本元件
2．2．3 合成射流激励器“电-力-声”类比等效线路
2．2．4 合成射流频率特性
2．2．5 合成射流延迟相位角频响特性
2．3 压电振子工作特性实验和压电式合成射流激励器计算模型
2．3．1 压电振子阻抗频率特性实验研究
2．3．2 压电振子振动位移实验研究
2．3．3 压电式合成射流激励器计算模型
2．4 合成射流热线实验研究
2．4．1 实验测试系统和实验内容
2．4．2 激励器结构参数的影响
2．4．3 合成射流响应时间
2．5 合成射流：PIV实验研究
2．5．1 合成射流PIV实验
2．5．2 延迟相位角及相位补偿技术
2．5．3 合成射流工作过程及流场特征
2．6 相邻激励器合成射流PIV实验及致偏机制研究
2．6．1 研究意义及现状
2．6．2 相邻激励器合成射流实验内容和激励器参数
2．6．3 相邻激励器合成射流旋涡致偏机制
2．6．4 不同相位差
2．6．5 不同驱动电压幅值
2．7 合成射流数值模拟及验证
2．7．1 数值模拟
2．7．2 计算结果及验证
2．8 本章小结
2．8．1 本章主要工作和结论
2．8．2 本章工作主要创新点
2．8．3 下一步工作展望
第三章 新一代合成射流激励器——合成双射流激励器
3．1 引言
3．2 合成双射流激励器概述
3．2．1 新一代合成射流激励器设计指导思想
3．2．2 合成双射流激励器基本结构及工作原理
3．2．3 工作特点及其优越性
3．3 合成双射流激励器PⅣ实验研究
3．3．1 实验内容及参数
3．3．2 工作过程及流场特征
3．3．3 驱动电压参数的影响
3．3．4 挡板，凸台的影响
3．4 合成双射流激励器数值模拟研究
3．4．1 数值模拟及实验对比分析
3．4．2 滑块构型的影响及滑块滑移的功能
3．5 本章小结
3．5．1 本章主要工作和结论
3．5．2 本章工作主要创新点
3．5．3 下一步工作展望

下篇 应用篇
第四章 应用合成射流技术进行射流矢量控制
4．1 引言
4．2 应用合成射流激励器进行宏观主流矢量控制
4．2．1 研究目标和研究策略
4．2．2 主流矢量控制优化模式
4．2．3 数值模拟
4．2．4 物理过程和控制机理
4．2．5 物理因素及其源变量
4．2．6合成射流激励器主流矢量控制数学模型
4．3 应用合成双射流激励器进行宏观主流矢量控制
4．3．1 物理模型和数值方法
4．3．2 计算算例及其对比参数
4．3．3 计算结果和分析
4．3．4 独特的主流矢量控制“双”功能
4．4 本章小结
4．4．1 本章主要工作和结论
4．4．2 本章工作主要创新点
4．4．3 下一步工作展望
第五章 合成射流基微泵和合成双射流激励器连续流微泵
5．1 引言
5．2 合成射流基无阀微泵
5．2．1 合成射流独特的流场分区和流场可控特征
5．2．2 合成射流基微泵物理模型及其工作原理
5．2．3 合成射流基微泵的设计准则
5．2．4 合成射流基微泵性能分析
5．2．5 合成射流基微泵的控制律
5．3 基于合成双射流激励器的连续流微泵
5．3．1 往复式微泵实现连续流传输的设计思想
5．3．2 合成双射流激励器连续流微泵物理模型及工作原理
5．3．3 合成双射流激励器连续流微泵数值仿真及性能分析
5．4 本章小结
5．4．1 本章主要工作和结论
5．4．2 本章工作主要创新点
5．4．3 下一步工作展望
第六章 结束语
6．1 结论和创新点
6．1．1 结论
6．1．2 创新点
6．2 对未来研究工作的展望
致谢
攻读博士学位期间取得的学术成果
参考文献
后记